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卷對卷蝕刻製程

卷對卷蝕刻設備
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·卷對卷曝光機
·卷對卷蝕刻機
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製程 設備展示 簡介 說明
除油 卷對卷清洗設備 化學除油 寬度 600mm, 0到6m/min
掩膜 卷對卷網印 &幹燥設備 普通蝕刻 寬度 25到400mm, 0到3m/min
卷對卷光刻膠(感光抗蝕油墨)覆膜機 精密蝕刻 寬度25到500 mm, 0到8m/min
*曝光 卷對卷雙面精密曝光設備 近似平行光, 均勻度可達85% 寬度 25到500mm, 0到3m/min
顯影 卷對卷雙面顯影機 顯影&幹燥線 寬度 25到600mm, 0到6m/min
*蝕刻 卷對卷光化學蝕刻機(8窗) 製程: 進料 -蝕刻 - 活化 -蝕刻 - 封液 - 清洗 - 退膜 - 加壓水洗 - 封液 - 熱風干燥 - 出料 蝕刻區域(25到500)*2000*4mm, 傳送速度 0到6m/min
您可以選擇網印掩膜用于一般的蝕刻(用于裝飾性或沒有精度要求); 或者選擇卷對卷覆膜機厭覆幹膜,直接感光后蝕刻,用于精密蝕刻作業.
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